半导体制作中需求很多的化学品来制作硅晶圆片，一起在后续工艺中需求各种化学品用于清洗、光刻、刻蚀、离子注入等工艺，本文将对半导体制作中所用的化学品进行概括，供我们参阅。

  半导体制作对气体纯度要求极高，一般通用气体纯度要到达99.99999%，即7个9，特种气体要到达99.99%即4个9的纯度。

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